CAS:13829-21-5|N-DÉCYLTRICHLOROSILANE

Présentation du CAS : 13829-21-5|N-DÉCYLTRICHLOROSILANE

Le décyltrichlorosilane a une structure moléculaire linéaire de formule CH3(CH2)9SiCl3 . La molécule est constituée d'une chaîne décyle (dix atomes de carbone) attachée à un atome de silicium, lui-même lié à trois atomes de chlore .

Spécification de CAS : 13829-21-5|N-DÉCYLTRICHLOROSILANE

Application de la recherche CAS : 13829-21-5|N-DÉCYLTRICHLOROSILANE

Adsorption aux interfaces solide-liquide:Le décyltrichlorosilane, lorsqu'il est supporté sur un polydiméthylsiloxane élastomère, a été utilisé comme système modèle pour étudier l'adsorption de tensioactifs non ioniques aux interfaces solide-liquide. Cette recherche a des implications pour la compréhension de la tension interfaciale et de l'excès de surface à ces interfaces (Haidara, Chaudhury et Owen, 1995).

Contrôle de surface dans l'orientation des cristaux liquides:Des études impliquant des monocouches chimisorbées de ce composé ont exploré son utilisation pour contrôler l'orientation des cristaux liquides. Cette recherche est précieuse pour des applications dans la technologie de l'affichage et la science des matériaux (Geer, Yang et Frank, 1997).

Formation de monocouches auto-assemblées: ce composé a été utilisé dans la formation de monocouches auto-assemblées sur de l'oxyde de silicium, influençant l'énergie de surface du matériau. Ceci est important dans le développement de revêtements et d'interfaces avec des propriétés spécifiques (Belgardt, Graaf, Baumgärtel et Borczyskowski, 2010).

Mouvement de l'eau sur les surfaces:Des recherches ont montré qu'un gradient de surface dans l'énergie libre créée par ce composé peut provoquer le déplacement des gouttelettes d'eau vers le haut. Cette découverte a des implications pour la dynamique des fluides et l'ingénierie des surfaces (Chaudhury & Whitesides, 1992).

Formation de membranes de taille nanométrique:ce composé a été utilisé dans la formation rapide de membranes de polyaniline de taille nanométrique sur des substrats de verre, qui sont importantes dans la microélectronique et les technologies de séparation des gaz (Tao, Wang, Wei et Wu, 2007).

Fabrication de structures micromécaniques:Le composé a été utilisé dans un procédé de libération humide pour la fabrication de structures micromécaniques minces et souples, démontrant son importance dans le domaine de la microfabrication et de la technologie MEMS (Pamidighantam et al., 2002).

étiquette à chaud: cas:13829-21-5|n-décyltrichlorosilane, Chine cas:13829-21-5|n-décyltrichlorosilane fabricants, usine